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Activation Line: Mit Linienstrahlformung Materialien und Oberflächen großflächig und schnell bearbeiten

Mit Linienstrahlformung Materialien und Oberflächen großflächig und schnell bearbeiten

LIMOs Activation Line eröffnet neue Dimensionen in der Funktionalisierung von Oberflächen sowie von Beschichtungen und revolutioniert somit industrielle Fertigungstechnologien verschiedenster Branchen. Mit diesem Linienstrahlformungssystem können Kunden nicht nur Materialien verbessern, sondern diese auch für neue Anwendungen befähigen.

Die Strahlformung der Activation Line - in Form von langen, schmalen Laserlinien mit präzisen Strahlparametern - ist genau abgestimmt auf Anwendung und Prozess des Kunden. In LIMOs Application Center werden mittels Anwendungstests die einzelnen Bearbeitungsparameter genau definiert. Hierbei profitiert der Kunde von LIMOs Prozess-Know-How im Bereich der Materialbearbeitung.

Vorteile und Nutzen der Activation Line:

  • Komplettlösung mit individueller Linienstrahlformung
  • Höhere Prozessgeschwindigkeit und -effizienz sowie Produktivität aufgrund großflächiger und simultaner Bearbeitung entlang der Laserlinie
  • Gleichförmige und gleichbleibende hochwertige Prozessergebnisse durch homogene Intensitätsverteilung des Linienstrahlprofils
  • Skalierbare Laserlinie: flexible Anpassung der Linienlänge an neue Prozessanforderungen
  • Unabhängig von verwendeten Laserquelle: ob L³ LIMO Line Lasers® mit bereits integrierter Linienstrahlformung oder optisches Strahlformungssystem inkl. zusätzlicher Laserquelle (z.B. Excimer-, Festkörperlaser) - die Wahl der Laserquelle richtet sich nach der bestmöglichen technischen und wirtschaftlichen Lösung
  • Flexibel einsetzbar: kann in bestehende Prozessstrukturen integriert werden oder neue Prozesse schaffen

Mit der Activation Line können unterschiedlichste Oberflächen und Materialien bearbeitet werden, um die elektrischen, mechanischen und optischen Eigenschaften funktionaler Schichten zu aktivieren, zu optimieren oder definiert abzulösen.

Anwendungs-/Materialbeispiele:

  • Lift-off-Verfahren und Kristallisation bei der Herstellung von Displays und LED
  • Kristallisation, Trocknung und Sintern von Solarzellen
  • Funktionsoptimierung von beschichtetem Floatglas
  • Funktionalisierung von Metallen und metallischen Oberflächen
  • Aktivierung von Dotierstoffen in Halbleitern
  • OLEDs, Energiespeicher, gedruckte Elektronik, Polymere

Beispiele für bereits realisierte Activation Line Lösungen:

Bezeichnung Linienlänge Wellenlänge Prozesstyp Anwendungsbereich
Activation Line 650
Activation Line 750
Activation Line 100
650 mm
750 mm
100 mm
341 - 353 nm LLO – Laser Lift-Off Flachbildschirm
Activation Line 12
Activation Line 30
Activation Line 300
12 mm
30 mm
300 mm
808, 980 nm Tempern, Kristallisation,
Härten, Sintern, Legieren
Glas, Photovoltaik,
Schwermetallindustrie
Activation Line 200 200 mm 980 nm Trocknen, Sintern Gedruckte Elektronik

Industrielles Strahlformungsystem für sehr dünne UV Linien (> 600 mm Länge):

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